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《国冠星痕M二阶魔方》
星痕二阶作为国冠系列的第一款二阶产品，将稳定的拼接设计和精心研发的容错模型结合在了一起，容错及易容错更加强大，提供了更流畅的复原体验。星痕m，在原本强大的星痕二阶基础上加入48颗强磁定位，大幅度增加其稳定性和转动手感，将魔方原本的性能潜力完全激发。环绕磁铁的磁铁槽增加了一倍的粘合接触面积，减少了掉磁风险。
预留磁铁粘合位
产品内部预留粘合位置，粘合面积更大更加牢固，减少磁铁容易掉落的风险。
精细化手工打造
制作过程精益求精，力求每个磁铁粘贴位置精准度达到要求，尽量减少粘合误差对魔方手感造成影响。
磁力强度适中
多次测试挑选出磁力强度适中的磁铁，确保魔方拥有良好的磁力定位效果。
防飞卡角设计
隐藏棱底部设计有防飞十字卡角，为内核提供了良好的防POP能力。
棱-中心定位设计
三个定位隐藏棱与三个中心块组合即可形成本款二阶的定位系统，组装简便高效。并且
六面松紧均可自由控制，转动手感更平衡！
棱块一体化
隐藏棱采用一体化设计，大面积镂空减少塑料注塑缩水带来的形变影响，转动更稳定！
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